日本金属学会 2020年春期(第166回)講演大会
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10:55 〜 11:10
[110]
セラミックス基複合材料内部の炭素質の電気化学的珪化
*中村 真聖
1
、盧 鑫
2
、竹田 修
2
、朱 鴻民
2
(1. 東北大工(院生)、2. 東北大工)
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キーワード:
電気化学的な成膜、複合材料
耐酸化性に優れたセラミックス基複合材料を作製するため、溶融塩電解によって炭素基複合材料にSiを電析し、内部の炭素質を珪化した。また、Siの析出深さの電解条件、炭素質の空隙率依存性を調査した。
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