[G] 固相プロセス固相・溶接プロセス

15:00 〜 15:15

[320] 金属と高分子積層の剥離抵抗への電子線適量照射の効果

*西 義武¹、内田 ヘルムート貴大²、フォードリー マイケル³ (1. 神奈川産総研、2. 東海大工、3. 東京都市大)

キーワード：

lamination、electron beam、metal、polymer、peeling

金属と高分子の積層構造の剥離強度を最適線量の電子線照射が向上させることを考案した。この機構は、酸素を介した場合と、金属最表面原子と隣接高分子終端原子の波動関数が共有される場合の可能性も考察した。