講演情報

[S6.26]電子線照射W-X合金(X = Mo, Ta, Re)中の照射欠陥形成に対する添加元素効果

*外山 健1、波多野 雄治2、Zhao Can1、井上 耕治1、薮内 敦3、木野村 淳3、永井 康介1 (1. 東北大金研、2. 富山大水素研、3. 京都大複合研)

キーワード:

タングステン、照射欠陥、陽電子消滅

タングステン合金を電子線照射し、形成した照射欠陥を陽電子消滅法で調べた。