[KS] K2 次世代パワエレ実用化に向けた酸化物軟磁性材料の現状と課題～さらなる性能向上に向けたマテリアルデザイン～

10:00 〜 10:30

[K2.3] [基調講演]フェライトめっき膜の異方性制御による高透磁率化

*松下 伸広¹、阿部 正紀¹ (1. 東京工業大学)

キーワード：

フェライトめっき膜、高透磁率、磁気異方性

スピンスプレー法による軟磁性フェライト膜の作製時に基板付近に磁界印加することによる異方性制御によって200超の高透磁率が得られることを示すとともに、膜を高抵抗化するプロセス条件も明らかにする。