[G] スピントロニクス・ナノ磁性材料

9:15 〜 9:30

[25] 高規則度C11_b-Cr₂Al薄膜の作製とNéel温度の決定

*豊木 研太郎¹、濱口 峻祐¹、佐藤 歩美¹、種田 利空¹、白土 優¹、中谷 亮一¹ (1. 阪大工)

キーワード：

反強磁性体、Néel温度、Cr2Al、薄膜

正方晶系の反強磁性体であるC11_b-Cr₂Alに着目し，高規則度な薄膜作製を行った．その結果，673 K以上の製膜温度によっ規則化した薄膜が得られること，また700 K程度のNéel温度が薄膜でも得られることがわかった．