[P41]高圧ねじり加工を施したナノシリコン焼結体の準安定相生成と電気・光学特性
*李 卓航1、髙井良 真里奈1、生駒 嘉史2、河野 正道2、尾﨑 由紀子2、永廣 怜平3、塩見 淳一郎4(1. 九大工(院生)、2. 九大工、3. 東大工(院生)、4. 東大工)
キーワード:
ナノSi、準安定相、HPT加工、焼結体、フォトルミネッセンス、X線回折測定、ラマン散乱分光測定、比抵抗
SiのHPT加工では、これまでに単結晶を用いた研究が報告されている。しかし多結晶Siを出発材とした場合の変化は不明である。本研究では、ナノSi焼結体をHPT加工した際の準安定相形成および電気・光学特性を調査した。
