[P] P68~P73

13:00 〜 14:30

[P70] 斜入射スパッタリング法により作製したInN膜に対する真空残留水の影響

*及川 大地¹、井上 泰志²、高井 治³ (1. 千葉工大工(学生)、2. 千葉工大工、3. 関東学院大)

キーワード：

斜入射堆積法、窒化インジウム、残留水、吸着誘起型エレクトロクロミック

残留水を制御することでInN薄膜の色変化波長領域にどのような影響を与えるのか調査した．シリカゲルを用いた水導入により光吸収端は長波長側にシフトした．