講演情報

9:45 〜 10:00

[214]電子線照射されたタングステン中の空孔形成に対するレニウム添加効果

*外山健¹、Zhang Zhaokuan¹、井上耕治¹、永井康介¹、木野村淳²、波多野雄治³ (1. 東北大、2. 京都大、3. 富山大)

電子線照射、タングステン、原子空孔、陽電子消滅

W-Re合金に電子線を照射し、形成した原子空孔を陽電子消滅法で観察し、空孔形成へのRe添加効果を調べた。