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[16p-P06-2]Mg2Si薄膜の膜中酸素量に及ぼすスパッタリングおよびアニール条件の影響

〇淺野 圭祐1、勝俣 裕1 (1.明大理工)
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キーワード:

半導体、シリサイド、Mg2Si


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