[17a-C31-1~11] 11.1 基礎物性

9:45 〜 10:00奨励賞エントリー

[17a-C31-4] Nd:YAGレーザーを用いたPLD 法によるニッケル酸化物薄膜の作製とトポケミカル還元効果

〇(M1)森田 航太¹、山下 琉斗¹、土橋 礼奈¹、岡部 博幸^2,3、中村 惇平³、桑原 英樹¹、門野 良典³、足立 匡¹ (1.上智大理工、2.東北大金研、3.KEK 物構研)

キーワード：

無限層ニッケル酸化物、パルスレーザー堆積法、トポケミカル還元

無限層ニッケル酸化物のスピンゆらぎと超伝導の関連を超低速ミュオンで明らかにするために、無限層La_1-xSr_xNiO₂ (x = 0, 0.2)の薄膜を、従来のエキシマレーザーに比べて簡便なNd:YAGレーザーを用いたPulsed Laser Deposition(PLD)法と、還元剤CaH₂を用いたトポケミカル還元を組み合わせることで合成した。その結果x = 0, 0.2のどちらの試料でも、ある温度範囲で金属的な電気抵抗の温度依存性が見られ、Nd:YAGレーザーでも高品質な無限層試料を作製できることが分かった。