[17p-D61-1~14] 6.3 酸化物エレクトロニクス

14:45 〜 15:00奨励賞エントリー

[17p-D61-6] ニッケル酸ランタン薄膜のエピタキシャル成長および還元による酸素欠損型構造の作製

〇河村 和哉¹、金子 健太¹、山中 悠生¹、金子 智^2,1、松田 晃史¹ (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)

キーワード：

エピタキシャル薄膜、トポタクティック還元、ニッケル酸ランタン

Ruddlesden-Popper(RP)型La_n+1Ni_nO_3n+1は次数nの増加に伴う導電性の向上が報告されており、還元相においても多層型の結晶を用いて物性の相関を見出すことにより、平面配位構造をもつ層状酸化物薄膜の物性制御と応用への貢献が期待できる。本研究では、RP型結晶の還元相であるLa_n+1Ni_nO_2n+2薄膜の作製を目的とし、前駆体薄膜のエピタキシャル成長と還元熱処理による構造変化を検討した。