講演情報

[18p-A37-1]高エネルギーイオン照射法によるグラフェンへの異種原子ドーピング

〇圓谷 志郎1、本田 充紀2、水口 将輝3、渡邉 英雄4、大島 武1,5、好田 誠5,1 (1.量研、2.原子力機構、3.名古屋大、4.九州大、5.東北大)
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キーワード:

グラフェン、高エネルギーイオン照射

二次元層状物質と異種原子との接合領域に化学結合エネルギーをはるかに超える高エネルギーの重イオンビームを照射し,同入射イオンからのエネルギー付与によって化学結合の組み換えを生じさせる新しい二次元の創製を試みている。本研究では,KCl/グラフェンのヘテロ構造への高エネルギー重イオンビーム照射によるグラフェンへの塩素ドーピングを行った。

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