講演情報
[10p-C212-17]光周波数コム生成に向けたTFLNリング導波路の分散特性評価
〇坂本 駿介1、羽中田 祥司1、荒川 祐磨1、馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
キーワード：
薄膜ニオブ酸リチウム、光周波数コム、分散
薄膜ニオブ酸リチウム（TFLN）リング共振器を用いた光コム生成に向け、共振スペクトルから群速度分散特性を評価した。Kerrソリトン生成には0に近い異常分散が適している。導波路幅を広げると異常分散へシフトする傾向を実測と理論計算で確認し、導波路幅を1200〜1300 nmに設計することで、目標とする分散値（-50〜0 fs2/mm）が得られることを明らかにした。