講演情報
[10p-E308-3]AFM-IRにおける赤外・接触共振応答の試料厚さ依存性
〇山田 祐也1、加藤 雄一1、八木 祐介1、光岡 拓哉1、安孫子 勝寿1 (1.豊田中研)
キーワード：
AFM-IR、接触共振
原子間力顕微鏡赤外分光法（AFM-IR）は，ナノスケールで赤外分光分析を行うことが可能な分析手法であり，近年では，フォースカーブ測定や接触共振を利用した機械物性評価との同時測定も報告されている。薄膜材料の分析において，試料厚さ依存性や基板影響は重要であり，AFMによる機械物性測定とAFM-IRの赤外応答のそれぞれについて研究が進められている。しかし，それらを同一試料上で比較し，両者の関係を直接検討した例は少ない。
そこで本研究では，Si基板上に作製したポリメチルメタクリレート（PMMA）膜をコンタクトモードAFM-IRにより測定し，赤外吸収信号および接触共振応答の試料厚さ依存性を調査した。
そこで本研究では，Si基板上に作製したポリメチルメタクリレート（PMMA）膜をコンタクトモードAFM-IRにより測定し，赤外吸収信号および接触共振応答の試料厚さ依存性を調査した。