講演情報

[11a-E204-1]プラズマ・水界面近傍層における水和電子の反応速度定数―界面近傍領域における化学種の濃度分布を考慮した絶対値の評価―

〇稲垣 慶修1、木庭 悠吏1、佐々木 浩一1 (1.北大工)

キーワード:

水和電子

プラズマ・液体相互作用において基本的な活性種である水和電子の反応過程に関する研究は, 検出難度の高さから, ほとんど手付かずである。本講演では, 水和電子と8種の化学種(H3O+, NO2-, NO3-, Ni2+,Cu2+, CO2, H2O2, および 4-ニトロフェノール)の相対的な反応速度定数を求め, 界面近傍領域における化学種の濃度分布を考慮して絶対値の評価を行う。