[8a-S2-1~11] 3.13 シリコンフォトニクス・光電融合集積・光制御

11:15 〜 11:30

[8a-S2-9] 高効率な薄膜LN用グレーティングカプラの実証

〇田原 直樹¹、羽中田 祥司¹、坂本 駿介¹、荒川 祐磨¹、馬場 俊彦¹ (1.横国大院工)

キーワード：

薄膜ニオブ酸リチウム、グレーティングカプラ

薄膜ニオブ酸リチウム（TFLN）導波路と単一モード光ファイバの高効率結合を目的に，CMA-ESを用いてグレーティングカプラ（GC）を最適化した。Xカット600 nm厚TFLN上で回折格子寸法・配置およびファイバ条件を最適化し，計算で最大結合効率−2.7 dBを達成した。試作デバイスを電子ビーム描画とAr ICPエッチングで製作し，透過測定の結果，GC 1個当たり−3.0 dB以上の結合効率を確認した。