[9a-F211-1~12] 18.2 プロセスインフォマティクス

9:30 〜 9:45英語発表

[9a-F211-3] Bayesian Optimisation for SiC Polishing Simulations Using SSIM

〇Roberto Iaconi¹, Nelson Quijada¹, Kevin Richard G. Operiano¹, Susumu Maeda¹, Fumiya Kawate¹, Saeed Sepasy², Yoshifumi Watanabe² (1.Aixtal Corporation, 2.Mipox Corporation)

キーワード：

Optimisation、Polishing、Semiconductor (SiC)