講演情報
[9p-PA2-30]KOHフラックス法を用いた常圧下でのSr–Cu–O系膜の作製と評価
〇(M1)石橋 柚貴1、舩木 修平2、一野 祐亮2、尾崎 壽紀3、山田 容士1 (1.島根大自然、2.愛工大工、3.関学大工)
キーワード：
アルカリ土類系銅酸化物超伝導体、KOHフラックス法
本研究では、KOH フラックス法を用いて Sr–Cu–O 系薄膜の成膜を試み、得られた膜の結晶相や格子定数について詳細に調査した。合成温度800ºCで得られた膜には、c軸配向したSr3Cu2O5が成長していることが示唆され、そのc軸長は大気アニールを施すことで、温度上昇や時間に伴って収縮した。