一般セッション(口頭講演)3 光・フォトニクス：3.4 レーザー装置・材料
[9a-S5-1~9]3.4 レーザー装置・材料
2026年9月9日(水) 9:30 〜 12:30
S5 (総合教育棟 S講義棟)
座長：石月 秀貴(理研)、 北島 将太朗(名大)
9:30 〜 9:45
〇幡野 陸登1、白川 晃1 (1.電通大 レーザー研)
9:45 〜 10:00
〇和山 叶夢1,2、白川 晃1,2 (1.電通大、2.レーザー研)
10:00 〜 10:15
〇井口 央己1、三宅 晴之1、白川 晃1 (1.電通大レーザー研)
10:15 〜 10:30
〇神田 夏輝1、河瀬 広樹1、鍋川 康夫1、高橋 栄治1 (1.理研光量子セ)
10:45 〜 11:00
〇道根 百合奈1、米田 仁紀1 (1.電通大レーザー)
11:00 〜 11:15
〇佐藤 京樹1、道根 百合奈1、森田 宇亮1、米田 仁紀1、白川 晃1 (1.電通大 レーザー研)
11:15 〜 11:30
〇森田 宇亮1,2、道根 百合奈2、玉置 善紀1、村松 侑輝1、関根 尊史1、米田 仁紀2 (1.浜松ホトニクス、2.電通大レーザー研)
11:30 〜 11:45
〇米田 仁紀1、川瀬 廣明1、佐藤 京樹1、森田 宇亮1、道根 百合奈1 (1.電通大レーザー)
11:45 〜 12:00
〇石月 秀貴1、佐藤 庸一1、平等 拓範1,2 (1.理研RSC、2.核融合研)
