講演情報

[A4-3-02]熱応力割断による狭所き裂進展における最適な加熱領域の形状について

*永田 幸之介1、久保田 慎一1,2、森田 英俊1、才本 明秀2、園部 陽平2 (1. 佐世保工業高等専門学校、2. 長崎大学)

キーワード:

熱応力割断、加熱領域、半導体、脆性材料、レーザー加工