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13:00 〜 13:15
日本語
[MM12-3-03]
GaNの化学機械研磨に関する機械学習分子動力学解析 -Ga面とN面の比較-
*谷村 瞭
1
、LEELAPRACHAKUL Tatchaphon
2
、増谷 浩一
3
、高東 智佳子
3
、福永 明
3
、梅野 宜崇
2
(1. 東京大学、2. 東京大学生産技術研究所、3. 荏原製作所)
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キーワード:
分子動力学法、機械学習ポテンシャル、材料除去、窒化ガリウム
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