講演情報

[MM12-3-03]GaNの化学機械研磨に関する機械学習分子動力学解析 -Ga面とN面の比較-

*谷村 瞭1、LEELAPRACHAKUL Tatchaphon2、増谷 浩一3、高東 智佳子3、福永 明3、梅野 宜崇2 (1. 東京大学、2. 東京大学生産技術研究所、3. 荏原製作所)

キーワード:

分子動力学法、機械学習ポテンシャル、材料除去、窒化ガリウム