湿式素材プロセッシング

14:30 〜 14:45

[1817] 硫酸ニッケル製造における含ニッケル澱物溶解時の塩素除去について

^○中川英一¹, 早田二郎¹ (1.住友金属鉱山株式会社 金属事業本部 ニッケル工場 化成品課)

司会:八木俊介(大阪府立大学)

キーワード：

塩化物精錬法、電気ニッケル、硫酸ニッケル、塩化物イオン、酸化還元電位

塩化物精錬法を用いた電気ニッケル製造工程から分離されたCoを含むニッケル澱物（以下、含ニッケル澱物）を原料として硫酸ニッケルを製造する工程において、含ニッケル澱物に付着して混入する塩化物イオンを高温で硫酸を添加することにより酸化して塩素ガスとし除去している。しかし、電気ニッケル製造工程のプロセス変更に伴い含ニッケル澱物のCo品位が大幅に低下したことで、当該工程での塩素除去効率が悪化した。これは、含ニッケル澱物中のCo品位低下により、反応時の酸化還元電位がCl₂状態よりClO^-状態で安定となる領域まで上昇したことによるためであった。そこで、反応時の酸化還元電位を低下させるため、反応前の含ニッケル澱物スラリーにCoCl₂溶液を混合することで、含ニッケル澱物中のニッケル水酸化物の一部をあらかじめコバルト水酸化物に置換し、反応時の酸化還元電位を制御する方法を導入した。本報告では、これら含ニッケル澱物溶解時の塩素除去に関する取り組みについて報告する。


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