セッション詳細

高温プロセスによる新素材の展開

2016年3月28日(月) 13:00 〜 17:05
第1会場 東京大学
司会:武部博倫(愛媛大学), 野瀬嘉太郎(京都大学), 小俣孝久(大阪大学)

[1101]「高温プロセスによる新素材の展開」趣旨説明

武部博倫 (愛媛大学)

[1102]光通信用InGaAsP発光受光素子のLPE成長を題材にして観たLPE成長と状態図の基礎

中嶋一雄1 (1.JST FUTURE-PV INNOVATION)
司会:野瀬嘉太郎(京都大学)

[1103]熱CVD法によるグラフェンなどの二次元原子薄膜の創製と その成長メカニズム

吾郷浩樹1,2 (1.九州大学先導物質化学研究所, 2.JSTさきがけ)
司会:武部博倫(愛媛大学)

[1104]相安定図からの窒化アルミニウム結晶開発

福山博之1 (1.東北大学 多元物質科学研究所)
司会:武部博倫(愛媛大学)

[1105]フラックス法による環境・エネルギーデバイス用結晶粒子・結晶薄膜の創成

手嶋勝弥1,2, 是津信行1,2 (1.信州大学環境・エネルギー材料科学研究所, 2.信州大学工学部環境機能工学科)
司会:小俣孝久(大阪大学)