講演情報
[3211]銅電解精製におけるアノード不動態化の抑制
○大原秀樹1, 竹田賢二1, 浅野聡1, 渡健太2, 久保文吾2, 大上悟2, 中野博昭2, 金子祐輔3 (1.住友金属鉱山株式会社, 2.国立大学法人九州大学, 3.新日鐡住金株式会社)
司会: 白山栄(東京大学)
キーワード：
銅、電解精製、不動態化、銅イオン拡散、硫酸イオン濃度
銅の電解精製におけるアノードの不動態化の原因としては諸説あるが、本研究では、電解時のアノード表面を“その場”観察することにより、不動態化の主原因が硫酸銅の析出であることを確認した。また、不動態化に及ぼす電解液組成の影響を調査した結果、硫酸銅の析出に対して硫酸イオン濃度の影響が支配的であることを見出した。本報告では、硫酸イオン濃度が不動態化に影響を及ぼすメカニズムおよび他の因子との寄与率を比較した結果について示す。