講演情報
[1401-10-04]スルファミン酸浴を用いた低品位銅の電解精製における不純物の挙動
○福 和寿1、菅原 智裕1、岩渕 仁那1、関本 英弘1 (1. 岩手大学)
司会:佐々木秀顕(愛媛大学)
Chairman: Hideaki Sasaki (Ehime University)
Chairman: Hideaki Sasaki (Ehime University)
キーワード:
低品位銅、電解精製、スルファミン酸、不働態化、鉛
我が国では、銅製錬における原料のうち2割を非鉄精錬残渣やスクラップなどの2次原料が占めている。2次原料は、金、銀などの様々な有価金属を含むため処理量のさらなる増大が求められている。しかし、2次原料の割合が増加すると、溶錬工程を経て得られる粗銅の品位の低下が見込まれる。現在硫酸浴で行われている電解精製工程では、99%以上の品位の銅アノードが必要とされており、低品位銅を継続的に電解できない。これは、アノード中のPbなどが、容易に難溶性化合物を形成し、アノード表面に固着することで、銅イオンの拡散が阻害され硫酸銅が析出するためである。したがって、Pbなどの固着性スライム形成元素に対して大きな溶解度を示す電解液を用いれば、低品位銅アノードを用いて電解精製できると期待される。本研究では、鉛電解に採用されているスルファミン酸に着目し、低品位銅アノードを用いて電解精製実験を行った。結果、品位80%程度の銅アノードであっても電解精製のできる可能性が示唆された。本研究ではこれに加えて、電解によって電解液に移行する元素の種類と電解液からの除去方法についても調査したので報告する。
