講演情報
[1501-07-04]純銅陽極の定電流電解下における硫酸銅水和物の析出時の臨界電流密度の測定
○二宮 裕磨1、佐々木 秀顕2、吉川 健1、前田 正史1 (1. 東京大学、2. 愛媛大学)
司会：北田 敦（京都大学）
キーワード：
電解精製、不動態化
銅の電解精製プロセスにおいて，アノード表面に硫酸銅水和物が析出する不動態化は操業を妨げる要因の一つとして知られており，より効率的なプロセスを実現するためには不動態化を防ぐ指針が必要である．これまでの研究では硫酸銅水和物の析出挙動に着目し，溶解中の銅陽極表面の“その場”観察を行ってきた．今回の実験では“その場”観察に加えて、チャネルフローを用いて溶液を一定の流量で流しながら壁面に埋め込んだ純銅陽極を定電流電解することで定常的な拡散場を作り，段階的に電流密度を上昇しながら硫酸銅水和物の析出が生じる臨界電流密度の測定を行った．その結果，一定以上の流量で再現性良く臨界電流密度が得られた．さらに臨界電流密度から拡散層モデルを用いて電極表面における銅イオンの過飽和度の定量的な評価を行った．