講演情報
[2K0301-10-10]（学生発表：修士課程） 銅電解精製におけるノジュール成長におよぼす不純物イオンの影響
○石川 雄基1、宮本 真之1、北田 敦1、深見 一弘1、邑瀬 邦明1 (1. 京都大学)
司会：佐々木秀顕（愛媛大学）
キーワード：
銅電解精製、電流効率、ノジュール、不純物イオン
銅製錬の最終工程である銅電解精製では、水素発生を伴わないため理想的には電析電流効率が100 %になるはずであるが、実操業での電流効率は93～98 %である。その電流ロスは主に、カソード表面で形成する突起状の異常析出物（ノジュール）が成長し、アノードと接触して起こる部分的な短絡が原因である。そのため電流効率の改善にはノジュールの抑制が重要である。ノジュールの研究のほとんどは異常析出のごく初期（高さ1～2 mm未満）に関するものであり、ノジュールが25～35 mmも隔たったアノードに到達するほどまでに異常な成長をするメカニズムは明らかにされていない。本研究ではアノード由来の不純物元素に着目し、不純物イオンがノジュール成長に与える影響の解明を目的とした。ラボスケールでノジュール成長を模擬するため、様々な高さの銅の突起を予め付与した銅板をカソードに用いて電解を行った。電解液中の不純物イオンの有無が突起成長量と突起先端の形状に与える影響を調べた。