講演情報
[2701-13-05]（学生発表：修士課程）銅ナノワイヤネットワークの酸化と還元による金属接合創出
○佐藤 和哉1、横山 俊1、高橋 英志1 (1. 東北大学)
司会者：安田 幸司（京都大学）
キーワード：
銅、ナノワイヤ、透明導電膜、酸化還元反応
銅ナノワイヤから形成されるネットワーク膜は高い導電性と光透過率を持ち、既存の透明導電膜と比較して材料・成膜法が低コストであるため次世代の透明導電膜として注目されている。当研究室では、ナノワイヤ分散液を減圧濾過によりフィルター上に堆積させた後、目的基板へ転写することでナノワイヤがネットワークを形成し、透明導電膜として機能することを確認している。しかし、銅ナノワイヤの表面酸化によりナノワイヤ同士の接触部で抵抗が増加し、性能が劣化する。そのため、ナノワイヤ同士を接合させることで、透明導電膜性能の向上や維持が可能と考えた。そこで本研究では、ネットワーク形成後に銅の酸化還元反応を利用して銅ナノワイヤ同士の接合状態の創出を試みた。銅ナノワイヤの接合状態は走査型電子顕微鏡により観察された。転写を行い透明導電膜を作製した後に、酸化反応のため過酸化水素蒸気により処理を行ったところ銅ナノワイヤ同士の接合が確認でき、表面酸化されており抵抗が増加していた。その後、理想的な銅ナノワイヤの金属銅同士の接合を創出するため、接合状態の制御と接合後の処理方法の検討を行った。