講演情報

[2701-13-08](学生発表:修士課程)銅電解精製におけるチオ尿素の酸化および経時劣化挙動

○佐藤 璃玖1、大上 悟1、谷ノ内 勇樹1、中野 博昭1 (1. 九州大学)
司会者:安田 幸司(京都大学)

キーワード:

銅、電解、チオ尿素、酸化

Cuの電解精製では陰極表面を平滑にするためにチオ尿素(TU)が電解液に添加されている。本研究では,電解液中におけるチオ尿素(TU)の酸化および経時劣化挙動をサイクリックボルタンメトリー(CV),回転リングディスク電極法,交流インピーダンス法にて調査した。CV曲線よりTUはCu電極上では,0.15 V vs SHE以上でホルムアミジンジスルフィド(FDS)に酸化されることが分かった(2TU → FDS + 2H++ 2e-)。一方,通電なしでCu電解液を放置した際のTUの酸化挙動(2TU +2Cu2+ → FDS + 2Cu++ 2H+)を,反応生成物であるCu+イオンの生成量で評価したところ,電解液中へのCu浸漬の有無により異なることが判明した。Cu板を電解液に浸漬した場合のみ,TUの自発的な酸化が生じ,CuがTU酸化の触媒作用を有することが予想された。次に,銅の電解製錬によるTU, FDSの経時劣化挙動を,交流インピーダンス法にて測定したCu電析の分極抵抗値をもとに評価した。TU, FDSが浴中に少量存在すると,Cu電析の分極抵抗が低下した。しかし、電解の継続にともないその効果は減少した。