講演情報
[P067B]H2SiF6-PbSiF6系溶液中における鉛イオン(II)の拡散
○河村 陽任1[修士課程]、関本 英弘1、石黒 駿斗1、栗原 智紀1 (1. 岩手大学)
キーワード：
ベッツ法、電解精製、高分子添加剤
鉛の電解精製法であるBetts法では、H2SiF6-PbSiF6系溶液が用いられている。また、鉛の電気形態を改善する目的で、にかわやリグニンスルホン酸などの高分子添加剤が溶液に加えられている。鉛電解を高い電流密度で安定して操業するためには、添加剤の管理が重要である。過去に、我々の研究グループでは、鉛の電析形態および過電圧と電解液中のにかわ濃度およびにかわの分解挙動との相関を調べた結果について報告した。その際、鉛電解で要な添加剤の濃度は数 g L−1のオーダーであり、銅電解や亜鉛電解と比較して桁違いに大きいため、添加剤のPb(II)イオンの拡散速度への影響も考慮する必要があることを指摘した。そこで本研究では、サイクリックボルタンメトリーによって鉛の拡散限界電流を測定し、鉛イオン(II)の拡散速度について検討した。