流れの制御

16:00 〜 16:20表彰審査対象

[C2-03] 機能性表面を有する円柱における抗力係数に関係する後流の特徴量の抽出

*川島 悠太¹、尾身 興一¹、小山 哲司¹、今井 隆矢²、永野 弘樹²、川島 久宜¹、岩瀬 勉^1,2、石間 経章¹ (1. 群馬大学、2. 株式会社 SUBARU)

キーワード：

粒子画像流速測定法、抗力係数、微細加工、抵抗低減、円柱後流