講演情報

[E7-03]Dripping-onto-Substrate法による高分子溶液の伸長計測に基づくレオロジー評価

*佐藤 健1、樋口 泰亮2、瀧 健太郎2 (1. 金沢大学設計製造技術研究所、2. 金沢大学大学院自然科学研究科)

キーワード:

粘弾性流体、伸長レオロジー、Dripping-onto-Substrate法