1C01-04

10:00 〜 10:20

[1C04★E] 光脱保護反応におけるスピン操作の影響 : 基底三重項カチオン種の利用

*高良 優吾¹、石橋 千英²、岸 亮平³、安倍 学^1,4 (1. 広島大学大学院先進理工系科学研究科、2. 愛媛大学大学院理工学研究科、3. 大阪大学大学院基礎工学研究科、4. 広島大学光ドラッグデリバリー研究拠点)

キーワード：

光解離性保護基、基底三重項カチオン、過渡吸収スペクトル