International Conference on Solid State Devices and Materials
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1970 Conference on Solid State Devices
1970年9月21日
〜9月22日
The Tokyo Chamber of Commerce and Industry, Tokyo, Japan
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1970 Conference on Solid State Devices
詳細情報
1970 Conference on Solid State Devices
1970年9月21日
〜9月22日
The Tokyo Chamber of Commerce and Industry, Tokyo, Japan
[3-2]
Current Break‐off and "Memory" Effects in SbSI-SnO2 Heterostructure Thin Film
Y. Hamakawa、M. Yoshida(1.Osaka University)
https://doi.org/10.7567/SSDM.1970.3-2
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