International Conference on Solid State Devices and Materials
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1980 Conference on Solid State Devices
1980年8月26日
〜8月27日
The Tokyo Chamber of Commerce and Industry, Tokyo, Japan
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1980 Conference on Solid State Devices
詳細情報
1980 Conference on Solid State Devices
1980年8月26日
〜8月27日
The Tokyo Chamber of Commerce and Industry, Tokyo, Japan
[A-2-4]
Formation of a Double-Hetero Si/CoSi2/Si Structure Using Molecular Beam and Solid Phase Epitaxies
Shuichi Saitoh、Hiroshi Ishiwara、Seijiro Furukawa(1.Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology)
https://doi.org/10.7567/SSDM.1980.A-2-4
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