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[3C05]コンフォーカル光学系を用いたSi系電極CP断面のOperando観察

*Junya Oka1, Atsuko Yaguchi1, Yuya Akimoto1, Taichi Sakamoto2, Yuta Ikeuchi2, Takashi Mukai2, Tatsuya Tomita3, Yoshikazu Sasaki3, Yoshihiro Nishimura1 (1. Lasertec Corporation, 2. ATTACCATO LLC., 3. JEOL Ltd.)

Keywords:

オペランド観察,Si系負極,コンフォーカル光学系