[G] Dry Process, Thin- and Thick-Film Production, Surface and Interface Reaction, Surface Analysis

1:15 PM - 1:30 PM JST(4:15 AM - 4:30 AM UTC)

[410] パックセメンテーション法によるZr表面へのSi拡散層の形成に及ぼす活性化剤の影響

*Yu Zhenhua¹, Sato Naka², Fukumoto Michihisa², Hara Motoi² (1. 秋田大理工（院生）、2. 秋田大理工)

Keywords:

パックセメンテーション,Zr,Si拡散層,活性化剤

本研究では，パックセメンテーション法によりZr表面部にSi拡散層を形成させることを試みた。 また，NaF，AlF3，NH4Clの3種類の活性化剤を使用し，形成されたSi拡散層の形態および組成を比較，検討した。