[G] 気相プロセス・薄膜･厚膜作製技術・表界面反応･分析

13:15 〜 13:30

[410] パックセメンテーション法によるZr表面へのSi拡散層の形成に及ぼす活性化剤の影響

*于 鎮華¹、佐藤 菜花²、福本 倫久²、原 基² (1. 秋田大理工（院生）、2. 秋田大理工)

キーワード：

パックセメンテーション、Zr、Si拡散層、活性化剤

本研究では，パックセメンテーション法によりZr表面部にSi拡散層を形成させることを試みた。 また，NaF，AlF3，NH4Clの3種類の活性化剤を使用し，形成されたSi拡散層の形態および組成を比較，検討した。