[P] 5.材料化学

12:30 PM - 2:30 PM JST(3:30 AM - 5:30 AM UTC)

[P118] 斜入射スパッタリング法により作製したWO₃薄膜の微細構造とエレクトロクロミック特性

ARUGA Naoki¹, *HOSOYA Masashi¹, INOUE Yasushi¹, TAKAI Osamu² (1. 千葉工大工、2. 関東学院大)

Keywords:

スパッタリング,斜入射堆積法,WO₃,エレクトロクロミック

斜入射スパッタリング法により酸化タングステン(WO₃)膜を作製し，膜構造と光学特性および色変化時間において平滑なWO₃膜と比較することを目的とする．