講演情報

12:30 〜 14:30

[P118]斜入射スパッタリング法により作製したWO₃薄膜の微細構造とエレクトロクロミック特性

有賀直輝¹、*細谷昌史¹、井上泰志¹、高井治² (1. 千葉工大工、2. 関東学院大)

スパッタリング、斜入射堆積法、WO₃、エレクトロクロミック

斜入射スパッタリング法により酸化タングステン(WO₃)膜を作製し，膜構造と光学特性および色変化時間において平滑なWO₃膜と比較することを目的とする．