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12:30 PM - 2:30 PM JST(3:30 AM - 5:30 AM UTC)

[P28]Nd-Fe-B系厚膜磁石のMEMS応用に向けたSi基板の薄手化に関する検討

*YAMAGUCHI Takashi¹, TAKASHIMA Keisuke², YAMASHITA Akihiro², YANAI Takeshi², NAKANO Masaki², FUKUNAGA Hirotoshi² (1. 長崎大工(院生)、2. 長崎大)

PLD法,Nd-Fe-B,Si基板

Nd-Fe-B系磁石膜のMEMS応用を鑑み、Si基板上への作製が報告される中，本研究ではより薄手のSi基板への成膜を鑑み，PLD法を用いてガラス下地層挿入ならびに磁石膜の作製を検討した。