講演情報

12:30 〜 14:30

[P28]Nd-Fe-B系厚膜磁石のMEMS応用に向けたSi基板の薄手化に関する検討

*山口貴士¹、高嶋恵佑²、山下昂洋²、柳井武志²、中野正基²、福永博俊² (1. 長崎大工(院生)、2. 長崎大)

PLD法、Nd-Fe-B、Si基板

Nd-Fe-B系磁石膜のMEMS応用を鑑み、Si基板上への作製が報告される中，本研究ではより薄手のSi基板への成膜を鑑み，PLD法を用いてガラス下地層挿入ならびに磁石膜の作製を検討した。