[P3]Crystallization of Ge thin films using Au ultra thin films and electric characteristics
*Kenjiro KIMURA1, Kentaro KYUNO2(1. Shibaura Institute of Technology, 2. Shibaura Institute of Technology)
Si基板上のGe薄膜の上にAu薄膜を形成することで~15nm程度のGe超薄膜の作製を試みて, 作製した試料の表面を観察し, Ge超薄膜の電気特性を測定した.
