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2:35 PM - 2:50 PM JST(5:35 AM - 5:50 AM UTC)

[112]In-plane stress control of Sm-Fe thin films by ion bombardment.

*Masato KAMIYA¹, Ryuichi Kataoka², Takahiro Uchida³, Ryota Gemma³, Yoshihito Matsumura³ (1. Tokai Univ, 2. Tokai Univ, 3. Tokai Univ)

Sm-Fe,イオン衝撃,面内応力,スパッタリング,薄膜

本研究では、マグネトロンスパッタリング法により作製されたSm-Fe薄膜の面内応力を入射するイオンの運動量の大きさからイオン衝撃パラメータPiを用いて評価を試み薄膜の面内応力を制御することが可能か検討した。