Presentation Information

3:30 PM - 5:00 PM JST(6:30 AM - 8:00 AM UTC)

[P185]Structural Characterization of TiO₂Films Deposited by Glancing-angle Sputtering

*CHEN YUSOU¹, Inoue Yasushi², Takai Osamu³ (1. Chiba Institute of Technology, 2. Chiba Institute of Technology, 3. Kanto Gakuin University)

斜入射スパッタリング法,離散的柱状構造,二酸化チタン,光触媒活性材料,薄膜

斜入射スパッタリング法を用いてTiO₂薄膜を作製した．成膜圧力が離散的柱状構造の形成に大きく影響するとの報告がされている．そこで，成膜圧力をパラメータとし，作製したTiO₂薄膜の構造評価を行った．