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1:00 PM - 2:30 PM JST(4:00 AM - 5:30 AM UTC)

[P69]Deposition Conditions for Insulation Layer Formation in All-solid-state Electrochromic Cells with InN as a Coloration Layer

*Tomoki Taniyama¹, Chika Sonehara², Yasushi Inoue³, Osamu Takai⁴ (1. Chiba Institute of Technolog, 2. TDK, 3. Chiba Institute of Technolog, 4. Kanto Gakuin Univ)

Keywords:

エレクトロクロミック,窒化インジウム,絶縁膜,吸着誘起型EC現象,ITO薄膜

AiEC現象によって応答速度が速くなるECセルは表示デバイスへの応用が
期待されている.PVDで作成されたECセルはITO膜の間で絶縁性が確保で
きなかった.PVDで絶縁性を持つ完全固体ECセルの作成を目的とした.

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