[G] Analysis/Characterization/Evaluation

3:30 PM - 3:45 PM JST(6:30 AM - 6:45 AM UTC)

[64] Synthesis of iron silicide using interfacial solid-state reaction induced by electronic excitation

*Yuta FUJII¹, Kazuhisa SATO² (1. Graduate School of Engineering, Osaka Univ., 2. Research Center for UHVEM, Osaka Univ.)

Keywords:

内殻電子励起,界面固相反応,Feシリサイド

本研究では、Fe/アモルファス(a-)SiOx薄膜へ75 keV電子照射を行うことにより、Fe₂Siを形成し、その極微構造と形成メカニズムについて検討した。