[G] 分析・解析・評価

15:30 〜 15:45

[64] 電子励起による界面固相反応を利用したFeシリサイドの形成

*藤井 悠太¹、佐藤 和久² (1. 阪大工(院生)、2. 阪大電顕センター)

キーワード：

内殻電子励起、界面固相反応、Feシリサイド

本研究では、Fe/アモルファス(a-)SiOx薄膜へ75 keV電子照射を行うことにより、Fe₂Siを形成し、その極微構造と形成メカニズムについて検討した。