[P114]Morphology and characteristic of CrN thin films simultaneously deposited on different substrate materials
*Takumi SUGAI1, Tsuneo SUZUKI1(1. Nagaoka Univ. Tech)
MgO(001)単結晶とSi(100)単結晶の基板上にCrNを同時成膜し、
Si上ではMgO上のCrNと同様な物性を得られるか確認することを目的とした。
冷凍機を使用し、5∼300 Kまでの電気抵抗率の温度依存性を4端子法で測定した。
Si上ではMgO上のCrNと同様な物性を得られるか確認することを目的とした。
冷凍機を使用し、5∼300 Kまでの電気抵抗率の温度依存性を4端子法で測定した。
