[P] P67~P75

2:30 PM - 4:00 PM JST(5:30 AM - 7:00 AM UTC)

[P67] Film-thickness dependence of nanostructure formation induced
by ion beam irradiation on Ge thin film

*Jinichiro IDETO¹, Naoto OISHI¹, Noriko NITTA² (1. Kochi University of Technology, 2. Kochi University of Technology)

Keywords:

イオンビーム,照射欠陥,薄膜,ポーラス構造,Ge

半導体材料であるGeにイオンビームを照射すると、ナノポーラス構造が形成される。構造形成における薄膜の影響を電子顕微鏡によって調べた。